o JX일광일석금속(JX日鑛日石金屬, www.nmm.jx-group.co.jp)이 세계시장 점유율 60%를 차지하는 ‘스퍼터링 타겟’이라 불리는 반도체재료 신공장을 대만에 건설할 예정
- 이 회사로서는 20년만의 해외거점임. 이 재료는 주로 이소하라공장(이바라키현 키타이바라키시)에서 생산하고 있지만 동일본 대지진 후 해외고객으로부터 생산거점의 분산을 요구하는 소리가 높아졌음. 대만은 스퍼터링 타겟의 세계 최대시장. JX일광일석금속은 2위 시장인 한국에도 거점을 마련할 계획
- 스퍼터링 타겟은 대규모 집적회로(LSI)에 얇은 금속막으로 전극을 만드는데 사용하는 핵심소재로 반도체의 집적도를 높이는데 필수적. 동이나 코발트 등의 순도를 높이는 것은 어려워서 지금까지 수출경쟁력을 유지하고 있었음. 그러나 지진재해 후 수요가들이 경쟁업체에 발주를 분산하는 움직임을 보이고 있어 점유율 유지를 위해 거점을 분산시킬 필요가 있다고 판단함
- 대만 북서부의 도원현(桃園縣)에 2만㎡를 임차해 7월에는 착공할 예정. 투자액은 25억엔으로 2014년 1월에 생산개시를 목표로 함. 초기에는 고객이 요구하는 크기로 가공하는 마무리 공정만을 취급함. 전 회사의 생산능력은 10% 높아질 전망임. 금속가루를 소결해 성형하는 전 공정의 설비를 2~3년 내에 도입하는 것도 검토하고 있음
- 한편 한국에서는 다른 제품을 생산하는 공장에 설비를 도입하는 방향으로 조정 중. 투자액은 5억엔 전후로 예상됨
- JX일광일석금속은 스퍼터링 타겟의 해외거점으로서 미국에 마무리공정 공장을 보유하고 있음. 반도체생산이 활발한 대만이나 한국에는 이소하라공장에서 공급해왔음. 앞으로는 일본이 자랑하는 고기능소재에서도 시장입지를 높이려 함
* 스퍼터링 타겟(Sputtering Target) : 아르곤이온을 충돌시켜 반도체기판에 얇은 막의 전극을 만들기 위한 재료. LSI 제조과정에서 필수적. 얇은 막이여도 특성을 떨어뜨리지 않도록 준비된 동과 니켈 등의 순도를 더욱 높일 필요가 있음. JX일광일석금속이 세계에서 점유율 60%를 차지하고 있고 경쟁업체로는 미국의 하니웰 등이 있음
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